Formolene® HL5010 tem boa resistência à fusão, excelente resistência à trinca por tensão, boa rigidez e excelente resistência ao impacto, mesmo em baixas temperaturas. Essas propriedades tornam Formolene® HL5010 uma excelente resina para grande parte das aplicações de moldagem por sopro. Formolene® HL5010 atende aos requisitos da Food and Drug […]
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Formolene® L42009E2 é um filme de uso geral de baixa densidade linear feito com tecnologia de fase gasosa. A resina exibe excelente tenacidade e resistência quando esticada em espessuras finas. Formolene® L42009E2 atende a todos os requisitos da Food and Drug Administration, conforme especificado em 21 CFR 177.1520, cobrindo o […]
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Formolene FORMAX® L7 é um polietileno copolímero de hexeno de baixa densidade linear de alta resistência feito com um processo em fase gasosa. As propriedades mecânicas do filme são significativamente melhoradas em comparação com super resinas de filme hexeno LLDPE. Formolene FORMAX® L7 é formulado com deslizamento e antibloqueio para […]
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Formolene L42009 é um filme de uso geral de baixa densidade linear feito usando a fase de gás BP ProcessTM. A resina exibe excelente tenacidade e resistência quando esticada em espessuras finas. Formolene L42009 atende a todos os requisitos da Food and Drug Administration, conforme especificado em 21 CFR 177.1520, […]
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Formolene® L62009E2 é um filme de uso geral de baixa densidade linear feito com tecnologia de fase gasosa. A resina exibe excelente tenacidade e resistência quando esticado em calibres finos. Formolene® L62009E2 atende a todos os requisitos da Food and Drug Administration, conforme especificado em 21 CFR 177.1520, cobrindo o […]
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Formolene® 1102K é um homopolímero de polipropileno de alto peso molecular, altamente isotático projetado para processos de extrusão, notavelmente filme orientado biaxialmente (BOPP). Ele contém uma combinação única de estabilizadores, que fornece excelente processabilidade e bom desempenho de uso final. Não contém deslizamento ou antibloqueio. Formolene® 1102K atende a todos […]
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